鎳釩濺射靶材的制備及應用 

鎳釩濺射靶材是在制備鎳釩合金的過程中, 在鎳熔體中加入釩, 使制備出的合金更有利于磁控濺射, 結合了鎳濺射靶材和釩濺射靶材的優點. 隨著社會的進步和半導體產業的發展, 電子及信息、 集成電路、 顯示器等產業對鎳釩靶材的需求量越來越大.

 

濺射靶材集中用于信息存儲、 集成電路、 顯示器、 汽車后視鏡等產業, 主要用于磁控濺射各種薄膜材料. 磁控濺射是一種制備薄膜材料的方法, 利用離子源產生的離子, 在真空中加速聚集成高速離子流 , 被加速的粒子流轟擊到待沉積薄膜的物體表面, 離子和待沉積薄膜的物體表面的原子發生動能交換, 在待沉積薄膜的物體表面沉積上了納米 ( 或微米 ) 薄膜. 而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料 , 稱為濺射靶材 .

 

在集成電路制作中一般用純金作表面導電層, 但金與硅晶圓容易生成 AuSi 低熔點化合物, 導致金與硅界面粘結不牢固, 人們提出了在金和硅晶圓的表面增加一粘結層, 常用純鎳作粘結層, 但鎳層和金導電層之間也會形成擴散, 因此需要再有一阻擋層, 來防止金導電層和鎳粘結層之間的擴散. 阻擋層需要采用熔點高的金屬, 還要承受較大的電流密度, 高純金屬釩能滿足該要求 . 所以在集成電路制作中會用到鎳濺射靶材、 釩濺射靶材、 金濺射靶材等.

 

鎳釩濺射靶材是在制備鎳釩合金的過程中, 在鎳熔體中加入釩, 使制備出的合金更有利于磁控濺射, 結合了鎳濺射靶材和釩濺射靶材的優點, 可一次完成濺射鎳層( 粘結層) 和釩層( 阻擋層) . 鎳釩合金無磁性, 有利于磁控濺射 . 在電子及信息產業中, 基本替代了純鎳濺射靶材.鎳釩合金靶材的特點及應用

 

鎳釩合金靶材主要用于太陽能行業, 電子行業等領域.鎳釩靶材的應用及要求的純度如表 1 所示.

 

1)光存儲 .

2) 太陽薄膜電池.

3) 平板顯示器鍍膜.

4) 電子及半導體領域.

5) 建筑玻璃.

 

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